高德注册半导体超纯水设备

半导体超纯水设备常见的工艺流程：

离子交换工艺：原水+石英砂过滤器+活性碳过滤器+精密过滤器+原水箱+阳床+阴床+混床(复床)+纯水箱+纯水泵+后置精密过滤器+用水点。

反渗透工艺：原水+石英砂过滤器+活性碳过滤器+精密过滤器+原水箱+反渗透设备+混床(复床)+纯水箱+纯水泵+后置精密过滤器+用水点。

反渗透+edi工艺：原水+石英砂过滤器+活性碳过滤器+精密过滤器+原水箱+反渗透设备+电去离子(EDI)+纯水箱+纯水泵+后置精密过滤器+用水点。

半导体超纯水设备也是采用预处理、反渗透技术、高德平台RO设备 可将水中的导电介质几乎完全去除，又将水中不溶解的胶体物质、气体及有机物均去除至很低程度的水处理设备。超纯水系统设备的脱盐核心部件是反渗透膜。

    半导体超纯水设备也被已广泛应用于：电子、电力、电镀、高德注册登录 照明电器、实验室、食品、造纸、日化、建材、造漆、蓄电池、化验、生物、制药、石油、钢铁、玻璃清洗用水、半导体工业、精细化工、光学、医药用水、透析医疗用水。等领域。